武汉零部件清洗用去离子水设备 操作简便

去离子水设备处理是先通过石英砂过滤颗粒较粗的杂质，然后高压通过反渗透膜，分离出溶剂与溶液。比较后一般还要经过一步紫外以去除水中的微生物。假如此时电阻率还没有达到要求的话，可以再进行一次离子交换过程，比较高电阻率可达到18MΩ.CM。半导体工业中用的大多数是高纯度的去离子水。
去离子水设备使用工艺：
1、采用阳阴离子交换树脂取得的去离子水，一般通过之后，出水电导率可降到10μs/cm以下，再经过混床就可以达到1μs/cm以下了。但是这种方法做出来的水成本高，而且颗粒杂质太多，达不到理想的要求。目前已较少采用了；
2、预处理(即砂碳过滤器+精密过滤器)+反渗透+混床工艺：这种方法是目前采用较多的，因为反渗透投资成本也不算高，可以去除90%以上的水中离子，剩下的离子再通过混床交换除去，这样可使出水电导率：0.06左右。这样是目前流行的方法；
3、采用两级反渗透方式其流程如下：自来水→多介质过滤器→活性炭过滤器→软化水器→中间水箱→低压泵→精密过滤器→一级反渗透→PH调节→混合器→二级反渗透(反渗透膜表面带正电荷)→纯水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点；
4、前处理与*二种方法一样使用反渗透，只是后面使用的混床采用EDI连续除盐膜块代替，这样就不用酸碱再生树脂，而是用电再生。这就使整个过程无污染了，经过处理后的水质可达到：15M以上。但这这种方法的前期投资比较多，运行成本低。根据各公司的情况做适当的投资；
其流程如下：原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→软化水器→中间水箱→低压泵→PH值调节系统→混合器→精密过滤器→反渗透→中间水箱→EDI水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点。

去离子水设备采用双级RO+EDI模块化设计模式，与前置预处理配套使用，利用反渗透原理，有效去除水中盐份及杂质。系统具有工艺、产水水质稳定、操作简便、运行费用低、绿色、维护方便等优点。

去离子水设备的日常维护要注意哪些问题：
1、做好运行记录工作，认真观测记录各节点技术参数；
2、尽管一般设备采用全自动智能控制，也需要做好定时巡视工作；
3、预处理运行设备需重点留意，定期检查自动清洗是否正常运行，出水水质定时检测是否合格(重点为污染指数及ORP指数)；
4、定期更换精密滤芯，当滤芯内层出现灰色时就需及时更换；
5、时刻反渗透主机运行时得压力、流量、水质指标，出现异常需及时分析解决，当需化学清洗时及时清洗；
6、EDI精密电除盐装置，留意产水水质、淡、浓水进出压力、运行电压及电流等技术参数，依据技术参数变化及时进行再生与化学清洗；
7、抛光树脂过滤器，日常管理中注意进水水质情况，不符合设计要求不能进入，否则失效过快；
8、坚持“每个处理单元出水水质不合格就不能进入下一处理单元”的原则，否则增加下单元的处理负荷，造成不可逆的损伤。

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